高純材料分析

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	項(xiàng)目名稱(chēng)	高純材料分析
	檢測(cè)目的	鑒定高純度材料的成分含量
	檢測(cè)范圍	各種金屬，高純材料

項(xiàng)目簡(jiǎn)介

高純材料的分析通常通過(guò)輝光放電來(lái)進(jìn)行檢測(cè)，非常適合于導(dǎo)體（和/或）非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析。靈敏性非常高，可分析70多種元素。

在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析最理想的手段。表面處理工藝過(guò)程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過(guò)分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測(cè)量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。

檢測(cè)材料

一、貴金屬

金（3N,4N,4N5）、銀（3N,3N5,4N）、鉑（3N,3N5,4N）、鈀（3N,3N5,4N）、銠（3N,3N5,4N）銥3N,3N5,4N）、釕（3N,3N5）

二、有色金屬

鎢條（3N,4N）、鉭粉、鈮條、銦（3N,4N）、鉬條、鎵（3N,4N,5N,6N）

三、其他高純物質(zhì)

石墨、碳、硅、碳化硅、陶瓷、鍺、三氧化二鋁、高純二氧化鍺鍺（5N,6N）

高純四氯化鍺（5N,6N）

檢測(cè)方法

除去標(biāo)準(zhǔn)中指定方法外，我們還可用GDMS來(lái)對(duì)高純物質(zhì)進(jìn)行成分分析

GDMS-輝光放電質(zhì)譜儀

檢測(cè)面積：40－200平方毫米（消耗50微米厚度的樣品）